
更新時間:2020-08-12
產(chǎn)品品牌:Semiconsoft
產品型號:MProbe Vis
MProbe Vis薄膜測厚儀大部分(fèn)透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被(bèi)測量。比如:氧化物,氮化物(wù),光刻膠,高分子聚合物,半導體(矽,單(dān)晶矽,多晶矽),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬塗層(碳化矽,類(lèi)金剛石炭(tàn)),聚(jù)合物塗層(聚甲(jiǎ)基丙烯酸甲酯,聚酰胺
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定(dìng)的被MProbe Vis測厚儀(yí)測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(矽,單晶矽,多晶矽),半導體化(huà)合(hé)物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬塗層(碳化矽,類金剛石炭),聚(jù)合物塗層(聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)。
測(cè)量範圍: 15 nm -50um
波(bō)長範圍: 400 nm -1100 nm
MProbe Vis薄膜測厚儀適用(yòng)於實時在線測量,多層測量,非均勻塗層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持(chí)多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。
測量指標:薄(báo)膜厚(hòu)度,光學常數
界麵友好: 一鍵式測量和分析。
MProbe Vis薄膜測厚儀(yí)實用的(de)工具:曲(qǔ)線擬(nǐ)合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態測量和產線批量處理。

案例1,300nm二氧化矽薄膜的測量:

矽晶圓反射率,測量時間10ms:

案例2,測量500nm氮化鋁,測量參數:厚度和表麵粗糙度

電話:86-021-37018108
傳真:86-021-57656381
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