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連續式四探(tàn)針片電阻及光學(xué)膜厚測量設備

更新時間(jiān):2023-03-28

產品品牌:Frontier Semiconductor

產品(pǐn)型號:

產品(pǐn)描述:連續式四探針(zhēn)片電阻及光學膜厚測量設備設計, 片電阻不受針尖距離影響多種型號以供選擇

連續式四探針片電阻及(jí)光學(xué)膜厚測量設備設計, 片電(diàn)阻不受針尖距離影響多種型號以供選擇: 
自動上下片(Cassette to cassette, C2C) 
室溫至100°C 的測量(更高可選)
可添加並整合於多腔式的集束型架構設備(cluster tool) 

亦可在連續式設備內加入四探針片電阻(zǔ)及光學膜厚測量, 適合薄(báo)膜太陽能(銅銦镓硒, CIGS)及平板顯示行業

基材尺(chǐ)寸: 
450mm晶圓 (樣品台旋轉)
370 x 470mm 長方形(xíng)基底 (XY樣品台)
連續式設備可以度身訂做, 沒有尺寸限製 
片電(diàn)阻測量適合金屬薄膜(mó)、銅銦镓硒、非晶矽(矽)、碲化鎘、鉬、透明導(dǎo)電(diàn)薄膜(AlZnO2)、摻雜之後的(de)矽(矽)、矽鍺及鍺 
0.1 – 100,000 單位(wèi)麵積奧姆值 (更高可選(xuǎn)) 

可整合於連(lián)續式(INLINE)的生產線(xiàn)內, 而收集的測量數據可自動送到SCADA係統
光學(xué)膜厚測量功能可選 
測量光斑<1mm
波(bō)長: 380-1050nm
可測量膜厚: 15-50nm, 多可達250nm
短時間重複性: ~0.1nm 
長時間(jiān)重複性:: ~0.1nm 

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